久久精品国产亚州AV无码四区|亚洲人成网站18禁止国产一区|国产人成网在线播放VA免费|日韩精久无码一区二区三区AV

    <address id="nl7bj"></address>
    <form id="nl7bj"><nobr id="nl7bj"><nobr id="nl7bj"></nobr></nobr></form>

    <form id="nl7bj"><span id="nl7bj"></span></form><form id="nl7bj"></form>

                歡迎來到中山市凱美電子有限公司!售前咨詢服務熱線:0760-85898373 13822768980

                產品展示

                聯系我們

                地址:廣東省中山市三鄉鎮鴉崗西邊嶺3號4樓

                聯系人:王衡

                電話:13822768980

                E-mail:kevin@kvmen.com

                案例展示您當前所在的位置:首頁>>案例展示

                應用于射頻磁控濺射

                磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點,而上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

                射頻濺射是利用射頻放電等離子體中的正離子轟擊靶材、濺射出靶材原子從而沉積在接地的基板表面的技術。射頻濺射幾乎可以用來沉積任何固體材料的薄膜,獲得的薄膜致密、純度高、與基片附著牢固、建設速率大、 工藝重復性好。常用來沉積各種合金膜、磁性膜以及其他功能膜。

                  <address id="nl7bj"></address>
                  <form id="nl7bj"><nobr id="nl7bj"><nobr id="nl7bj"></nobr></nobr></form>

                  <form id="nl7bj"><span id="nl7bj"></span></form><form id="nl7bj"></form>